[发明专利]图案形成装置及图案形成方法、移动体驱动系统及移动体驱动方法、曝光装置及曝光方法、以及组件制造方法有效
| 申请号： | 200780005146.3 | 申请日： | 2007-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN101385121A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;G03F7/20;G03F7/207;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 何腾云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 空间像测量装置，其一部分设于晶圆载台(WST)，且剩下的一部分设于测量载台(MST)，用以测量透过投影光学系统(PL)而形成的标记的空间像。因此，可在通过空间像测量装置来测量投影光学系统(PL)的最佳聚焦位置时，将设有空间像测量装置一部分的晶圆载台在与投影光学系统的光轴(AX)平行的方向的位置，当作其最佳聚焦位置的基准来进行测量。因此，在以照明光(IL)使物体(W)曝光时，根据该最佳聚焦位置的测量结果，以高精度调整晶圆载台(WST)在与光轴(AX)平行的方向的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 装置 方法 移动 驱动 系统 曝光 以及 组件 制造 | ||
【主权项】：
1. 一种图案形成装置，通过能量束经由光学系统将图案形成于物体上，其特征在于，具备:第1移动体，保持该物体而在包含第1轴及与该第1轴交叉的第2轴的既定平面内移动；第2移动体，在该平面内、独立于该第1移动体移动；以及空间像测量装置，其一部分设于该第1移动体且剩余的一部分设于该第2移动体，用以测量经由该光学系统形成的标记的空间像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780005146.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：单节电池手电筒
- 下一篇：一种法兰管道联接装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
