[发明专利]消除对稀有气体中的杂质测量的干扰的系统和方法有效

专利信息
申请号: 200780007141.4 申请日: 2007-02-28
公开(公告)号: CN101410710A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: 伊夫·加马彻;安德里·福蒂尔 申请(专利权)人: 巴拿利提科有限公司
主分类号: G01N21/71 分类号: G01N21/71;G01N21/69;B01D53/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王 旭
地址: 加拿大*** 国省代码: 加拿大;CA
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摘要: 发明提供一种基于发射光谱的消除对稀有气体中的杂质测量的干扰的系统和方法,所述系统和方法提供非常稳定、敏感并且没有干扰的结果。所述方法主要依赖于特别设计的串联连接以消除干扰的装置与适当的用于校正线性问题的装置的组合使用。所提出的方法是特别有利的,因为即使在低于ppb并且高达10,000ppm的水平,它也提供长期稳定性,同时提供非常精确和可靠的结果,而不管环境条件以及可能存在于处于分析下的气体中的另外的杂质如何。
搜索关键词: 消除 稀有气体 中的 杂质 测量 干扰 系统 方法
【主权项】:
1.一种消除对稀有气体中的杂质测量的干扰的方法,所述方法包括下列步骤:a)提供气体样品,所述气体样品中具有干扰杂质以及被测量杂质;b)提供多个捕集装置,所述多个捕集装置串联连接以限定具有入口和出口的杂质捕集器,所述捕集装置的每一个适于捕集所述干扰杂质中的具体一种,而不影响所述被测量杂质;c)在用于移除所述干扰杂质的所述杂质捕集器的所述入口引入所述气体样品;d)在所述杂质捕集器的所述出口将水分加入所述气体样品中;e)将所述气体样品引入等离子体发射系统的等离子体单元中;f)收集在不受光谱干扰的特定发射波长由所述等离子体单元产生的发射光,以提供表示所述气体样品的所述被测量杂质的浓度的发射信号;以及g)根据步骤f)中提供的所述发射信号测量所述被测量杂质的浓度。
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