[发明专利]被膜形成用涂布液，其制造方法，其被膜及反射防止材料有效
| 申请号： | 200780008121.9 | 申请日： | 2007-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN101395238A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 谷好浩;元山贤一 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/08 | 分类号： | C09D183/08;B05D5/06;B05D7/24;C08J7/04;C09D5/00;C09D183/02;G02B1/11 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 冯 雅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供保存稳定性优良、通过低温度的加热处理能充分地固化而形成耐擦伤性优良的被膜的被膜形成用涂布液、其制造方法、被膜、反射防止材料。该被膜形成用涂布液是含有聚硅氧烷(A)和选自式(1)表示的聚硅氧烷(B)及一元胺化合物(C)的至少一种，且它们溶解于有机溶剂(D)中的被膜形成用涂布液，上述聚硅氧烷(A)是带有具有氟原子的有机基团的聚硅氧烷，R1，R2，R3及R4分别独立地表示氢原子或碳数1～5的饱和烃基，n表示2以上的整数。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 用涂布液 制造 方法 反射 防止 材料 | ||
【主权项】：
1.被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷(A)和选自式(1)表示的聚硅氧烷(B)及一元胺化合物(C)的至少一种，且它们溶解于有机溶剂(D)中，所述聚硅氧烷(A)是带有具有氟原子的有机基团的聚硅氧烷；![]()
R1，R2，R3及R4分别独立地表示氢原子或碳数1～5的饱和烃基，n表示2以上的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学工业株式会社，未经日产化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780008121.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于时域处理联合信道估计的正交频分复用系统
- 下一篇：一种自动拼板机
- 同类专利
- 专利分类
C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
