[发明专利]带状离子束植入机系统的架构有效
| 申请号： | 200780009281.5 | 申请日： | 2007-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101416269A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 坷若许·沙丹特曼德;彼德·L·凯勒曼 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/30 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁 |
| 地址： | 美国麻*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种带状离子束植入机系统的架构，在一实施例中，架构包括：加速/减速平行化透镜系统，其用于接收扇型带状离子束且用于将扇型带状离子束至少平行化(且或许亦加速或减速)为实质上平行的带状离子束；以及能量过滤系统，其在加速/减速平行化透镜系统的下游且在将由实质上平行的带状离子束植入的工件之前。加速/减速平行化透镜系统包括用于至少平行化(且或许亦加速或减速)扇型带状离子束的透镜以及用于使实质上平行的带状离子束加速或减速的加速/减速透镜。平行化透镜允许高电流带状离子束以可下降至低至约200eV的能量来传送至工件。能量过滤系统提供实质上没有能量污染的实质上平行的带状离子束。 | ||
| 搜索关键词： | 带状 离子束 植入 系统 架构 | ||
【主权项】：
1、一种离子植入机系统，其特征在于其包含：带状离子束产生器，其用于产生扇型带状离子束；加速/减速平行化透镜系统，其在所述带状离子束产生器的下游，用于将所述扇型带状离子束至少平行化为实质上平行的带状离子束；以及能量过滤系统，其在所述加速/减速平行化透镜系统的下游且在将由所述实质上平行的带状离子束植入的工件之前。
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