[发明专利]通过高剪切条件下产品形态控制制备的高清洁性二氧化硅材料无效
| 申请号： | 200780010099.1 | 申请日： | 2007-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101405218A | 公开（公告）日： | 2009-04-08 |
| 发明（设计）人： | P·D·麦克吉尔 | 申请（专利权）人： | J.M.休伯有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12;A61K8/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾 敏 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了原位产生沉淀二氧化硅和硅胶组合物的独特磨料。这种组合物显示不同的优点，尤其是同时具有高菌膜清洁性和中等的牙本质磨损水平。因此，该结果为使用者提供了能有效清洁牙齿表面而不有害磨损牙齿表面的洁齿产品。而且，所得磨料还显示非常高和所需的亮度性质，能容易地包含和应用到牙齿产品内以实现美学目的。本发明包括出于所述目的制备这种硅胶/沉淀二氧化硅复合材料的独特方法，特别是在高剪切条件下，以及具有上述不同结构化程度的各种材料和包含该材料的洁齿产品。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 剪切 条件下 产品 形态 控制 制备 清洁 二氧化硅 材料 | ||
【主权项】：
1.一种同时产生硅胶和沉淀二氧化硅的方法，所述方法包括以下连续步骤：a)将足量的碱金属硅酸盐和酸化剂混合在一起以形成硅胶组合物；b)形成硅胶组合物之后，在高剪切条件下处理所得组合物；并c)同时在所述步骤“b”的硅胶组合物中引入足量的碱金属硅酸盐和酸化剂以形成沉淀二氧化硅，从而产生沉淀/硅胶二氧化硅的组合。
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