[发明专利]连续沉积生产线中的边缘涂布无效

专利信息
申请号: 200780010218.3 申请日: 2007-03-02
公开(公告)号: CN101405432A 公开(公告)日: 2009-04-08
发明(设计)人: 米卡埃尔·舒伊斯基 申请(专利权)人: 山特维克知识产权股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/02;C23C14/24;C23C14/32;C23C14/34;C23C14/35
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 张建涛;车 文
地址: 瑞典桑*** 国省代码: 瑞典;SE
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摘要: 公开了一种连续的卷到卷的沉积涂布设备和一种连续涂布条带基底边缘的方法。本发明旨在获得一种具有致密涂层和基底之间的附着性改善的硬质耐磨涂层的金属条带。所述沉积涂布设备包括:包括位于沉积区域(118)上游的蚀刻区域(116)的真空处理室(114);位于蚀刻区域中的至少一个离子辅助蚀刻器(120);和位于沉积区域中的至少一个沉积设备(122),其中所述至少一个沉积设备含有至少一个靶材(124),在行经真空处理室时,条带基底向位于蚀刻区域中所述至少一个离子辅助蚀刻器突出第一边缘区域(140),并且向位于沉积区域中的所述至少一个沉积设备的靶材突出所述第一边缘区域(140),其中条带基底的第一边缘区域含有从第一近端位置(144)向第一远端位置成锥形的至少第一倾斜表面(142),所述第一近端位置比第一远端位置更接近条带基底的中央区域,第一倾斜表面具有第一表面法线(150),并且其中所述至少一个沉积设备的靶材包括具有靶材法线(128)的靶材表面(126),并且所述靶材相对于第一倾斜表面倾斜,使得靶材法线与第一表面法线相交成一定角度α,其中α≥90°。
搜索关键词: 连续 沉积 生产线 中的 边缘
【主权项】:
1.一种连续的卷到卷沉积涂布设备,包括:真空处理室,所述真空处理室包括在沉积区域上游的蚀刻区域;在所述蚀刻区域中的至少一个离子辅助蚀刻器;以及在所述沉积区域中的至少一个沉积设备,其中,所述至少一个沉积设备包括至少一个靶材,其中,行进通过所述真空处理室时,条带基底朝向所述蚀刻区域中的所述至少一个离子辅助蚀刻器突出第一边缘区域,并且朝向所述沉积区域中的所述至少一个沉积设备的所述靶材突出所述第一边缘区域,其中,所述条带基底的所述第一边缘区域包括从第一近端位置朝向第一远端位置成锥形的至少第一倾斜表面,所述第一近端位置比所述第一远端位置更靠近所述条带基底的中央区域,所述第一倾斜表面具有第一表面法线,并且其中,所述至少一个沉积设备的所述靶材包括具有靶材法线的靶材表面并且相对于所述第一倾斜表面倾斜,这样使得所述靶材法线与所述第一表面法线交叉成一定角度α,其中α大于或等于90度。
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