[发明专利]具有并联导电层的突变金属-绝缘体转变装置有效
申请号: | 200780010619.9 | 申请日: | 2007-01-31 |
公开(公告)号: | CN101410984A | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | 金铉卓;蔡秉圭;姜光镛;金俸准;李镕旭;尹善真 | 申请(专利权)人: | 韩国电子通信研究院 |
主分类号: | H01L29/768 | 分类号: | H01L29/768 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供一种具有并联导电层的突变MIT(金属-绝缘体转变)装置。所述突变MIT装置包括设置于衬底特定区域的第一电极、设置于与所述第一电极分开预定距离的第二电极,和至少一个导电层,其电连接所述第一电极和所述第二电极,并且具有允许所述导电层的整个区域由于MIT而转变为金属层的宽度。因为这样的布局,减少了通常由于流过所述导电层的电流引起的导电层恶化的可能性。 | ||
搜索关键词: | 具有 并联 导电 突变 金属 绝缘体 转变 装置 | ||
【主权项】:
1.一种突变MIT(金属-绝缘体转变)装置,包括:至少一个导电层,其具有允许所述导电层的整个区域由于MIT而转变为金属层的宽度。
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