[发明专利]导电薄膜及其制备方法、以及透明电磁屏蔽薄膜无效

专利信息
申请号: 200780011048.0 申请日: 2007-03-28
公开(公告)号: CN101411254A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: 佐佐木博友;松本淳;山崎高康;配岛章光;藤田佳弘 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;B32B7/02;B32B15/01;B32B15/08;G09F9/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于 辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及导电薄膜及其制备方法、以及透明电磁屏蔽薄膜。具体地,涉及一种具有电磁屏蔽能力的透明电磁屏蔽薄膜,其中在透明支撑体上形成表面覆盖有致黑层的图案化的导电金属薄膜。该透明电磁屏蔽薄膜的特征在于所述致黑层包括镍和锌的合金,其中镍/锌的质量比为0.5-50。该透明电磁屏蔽薄膜是用于等离子体显示器的良好的电磁屏蔽薄膜,这是因为其具有优异的电磁屏蔽性能并有效阻断电磁波、近红外光、散射光、外部光等。而且,即使将其储藏在湿热环境中,该电磁屏蔽薄膜的色彩改变小。另外,由于所述致黑层具有良好的粘附性,其不易被从电磁屏蔽薄膜上分离。
搜索关键词: 导电 薄膜 及其 制备 方法 以及 透明 电磁 屏蔽
【主权项】:
1、一种透明电磁屏蔽薄膜,包含:透明支撑体;以及具有电磁屏蔽能力以及具有致黑层覆盖的表面的图案化的导电金属层,其中,所述致黑层包含镍和锌的合金;其中镍/锌的质量比为0.5-50。
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