[发明专利]微波等离子体CVD系统

摘要

一种微波等离子体CVD系统，其在可沉积大面积高品质金刚石薄膜的条件下可以令人满意地进行等离子体的位置控制。该微波等离子体CVD系统包括：真空腔(1)，其上部中心具有导入微波(20)的开口部(2)；基材支持台(11)，用于支持真空腔内基材；波导，用于将微波导入至开口部；介电窗(22)，用于将微波导入至真空腔；以及天线部(25)，用于将微波导入至真空腔，该天线部由圆棒部(23)和电极部(24)构成，该圆棒部(23)位于波导、开口部和介电窗的中心，该电极部(24)与该真空腔的上部结合以夹持介电窗从而保持真空。该电极部(24)的端面形成为宽于介电窗以遮蔽该介电窗，并且在真空腔中心侧的电极部(24)的表面上形成预定尺寸的凹部(26)。

主权项

1.一种微波等离子体CVD装置，至少包括：真空腔，其具有用于导入微波的开口部；波导，其用于将所述微波导入至所述开口部；介电窗，其用于将所述微波导入至所述真空腔内；天线部，其末端上形成有电极部，该天线部用于将微波导入至所述真空腔内；以及基材支持台，其用于支持所述真空腔内的基材，所述介电窗夹持在所述真空腔的内表面与所述电极部之间，其中，所述电极部的端面形成为宽于所述介电窗的端面，使得介电窗被遮蔽，在所述电极部的面对该真空腔的中心的表面中形成凹部，并且所述凹部在面对所述真空腔中心的表面处的直径处于导入的微波的1/3至5/3波长范围内，且所述凹部从面对所述真空腔中心的表面到所述凹部的最深部的深度处于导入的微波的1/20至3/5波长范围内。