[发明专利]负性光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 200780011420.8 | 申请日： | 2007-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101410756A | 公开（公告）日： | 2009-04-15 |
| 发明（设计）人： | G·帕夫洛夫斯基;陈春伟;J·奥伯兰德;R·普拉斯 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/033 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王 健 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及负性光致抗蚀剂组合物，包含a)至少一种碱溶性聚合物，其中该聚合物包含至少一个结构(I)单元，其中R′独立地选自氢、(C1-C4)烷基、氯、溴，m是1-4的整数；b)至少一种结构(II)的单体，其中W是多价连接基，R1-R6独立地选自氢、羟基、(C1-C20)烷基和氯，X1和X2独立地是氧或N-R7，其中R7是氢或(C1-C20)烷基，n是等于或大于1的整数，和c)至少一种光引发剂。本发明还涉及负性光致抗蚀剂组合物的成像方法。 | ||
| 搜索关键词： | 负性光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.负性光致抗蚀剂组合物，包含：a)至少一种碱溶性聚合物，其中该聚合物包含至少一种结构(I)的单元，![]()
其中R′独立地选自氢、(C1-C4)烷基、氯和溴，m是1-4的整数；b)至少一种结构(II)的单体；![]()
其中W是多价连接基，R1-R6独立地选自氢、羟基、(C1-C20)烷基和氯，X1和X2独立地是氧或N-R7，其中R7是氢或(C1-C20)烷基，n是等于或大于1的整数；并且c)至少一种光引发剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料美国公司，未经AZ电子材料美国公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780011420.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
