[发明专利]树脂基板的连续制造方法和树脂基板无效

专利信息
申请号: 200780011615.2 申请日: 2007-03-16
公开(公告)号: CN101415554A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 早川诚一郎;胜间胜彦 申请(专利权)人: 日本合成化学工业株式会社
主分类号: B32B37/24 分类号: B32B37/24;B29C39/18;B29C39/24;B29C39/26;B29K33/04;B29L7/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 樊卫民;郭国清
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供能够再利用支撑膜、进一步实现树脂基板的高品质化、并且能够廉价地制造具有平坦且平滑表面的树脂基板的连续制造方法。一种树脂基板的连续制造方法,其包括:向传送的下部支撑膜上供给光固化性组合物[I]的工序、在该光固化性组合物[I]上层压与下部支撑膜在相同的方向上传送的上部支撑膜的工序、以及向光固化性组合物[I]照射活性能量射线使其固化的工序,其特征在于,下部支撑膜和上部支撑膜中的至少1个是将光固化性组合物[II]进行固化而得到。
搜索关键词: 树脂 连续 制造 方法
【主权项】:
1. 一种树脂基板的连续制造方法,其包括:向传送的下部支撑膜上供给光固化性组合物[I]的工序、在该光固化性组合物[I]上层压与下部支撑膜在相同的方向上传送的上部支撑膜的工序、以及向光固化性组合物[I]照射活性能量射线使其固化的工序,其特征在于,下部支撑膜和上部支撑膜中的至少1个是将光固化性组合物[II]进行固化而得到。
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