[发明专利]用金属填充孔和凹处的电解方法有效
申请号: | 200780011886.8 | 申请日: | 2007-03-30 |
公开(公告)号: | CN101416569A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | B·林兹;B·罗夫斯;T·麦加亚;M·尤卡恩斯;R·温策尔;S·吉姆 | 申请(专利权)人: | 埃托特克德国有限公司 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42;H05K3/18;C25D3/00;C25D5/00 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨 勇;郑建晖 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 公开了一种用金属填充工件的凹处、通孔、盲孔或微盲孔的电镀方法。根据所述方法,将包含凹处、通孔、盲孔或微盲孔的工件与金属沉积电解质形成接触,并且在该工件和至少一个阳极之间施加电压从而向该工件输送电流。本发明方法的特征在于,该电解质含有氧化还原体系。 | ||
搜索关键词: | 金属 填充 凹处 电解 方法 | ||
【主权项】:
1. 用金属填充工件中的凹处、通孔、盲孔或微盲孔的电镀方法,包括将包含凹处、通孔、盲孔或微盲孔的工件与金属沉积电解质形成接触,并且在工件和至少一个阳极之间施加电压以将电流供给该工件,其特征在于该电解质包含一种氧化还原体系。
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