[发明专利]离子注入装置有效
| 申请号： | 200780012023.2 | 申请日： | 2007-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101416270A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 中本一朗;宝来宽;袖子田龙也;吉田昌弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社IHI |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/04;H01J37/09;H01J37/244;H01L21/265 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 闫小龙;蒋 骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及使质量分离了的离子束对基板照射进行离子注入的质量分离型离子注入装置。在具备接收来自质量分离电磁铁(17)的离子束(1)、分选所希望的离子并使其通过的分离狭缝(20)的离子注入装置(10)中，分离狭缝(20)以使离子束(1)通过的缝隙形状是可变的方式构成。此外，离子注入装置(10)具备可变狭缝(30)，其配置在引出电极系统(15)和质量分离电磁铁(17)之间，形成离子束(1)通过的缝隙，该可变狭缝(30)以遮蔽从离子源(12)引出的离子束(1)的一部分的方式可变地构成缝隙形状。该离子注入装置(10)具备分离狭缝(20)可变狭缝(30)的双方也可，具备任一方也可。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 | ||
【主权项】：
1. 本发明的离子注入装置，具备：离子源，使包含应注入基板的所希望离子种的等离子体发生；引出电极系统，从该离子源的等离子体中引出包含上述所希望的离子种的剖面长方形状的离子束；质量分离电磁铁，使引出的上述离子束向其厚度方向一侧弯曲并质量分离，导出包含所希望的离子种的离子束；以及分离狭缝，接收来自该质量分离电磁铁的离子束，分选上述所希望的离子并使其通过，其中，使通过了上述分离狭缝的离子束照射基板进行离子注入，该离子注入装置其特征在于，上述分离狭缝以使离子束通过的缝隙形状是可变的方式构成。
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