[发明专利]像差评估图案、像差评估方法、像差校正方法、电子束描绘设备、电子显微镜、原盘、压模、记录介质和结构

摘要

本发明公开了一种照射电子束的照射系统的像散的评估方法。在该方法中，由多个(例如四个)同心圆组成的图形图案形成于参考样品WP上，且基于通过将该电子束扫描在参考样品WP上得到的电子信号而形成图像(扫描图像)。在该扫描图像中，图像在纵向平行于像散发生方向的区域内具有模糊，且该模糊的大小取决于像散的大小。因此，基于得到的扫描图像可以检测照射设备的照射系统的像散的方向和大小。

主权项

1. 一种用于评估照射系统的像差的像差评估图案，所述照射系统通过偏转电子束而将电子束扫描在样品表面上，所述像差评估图案包括：具有规定的线宽度以及线之间的规定间隔的周期性结构，所述周期性结构设置于同一平面内且从一中心向外形成，所述中心为当电子束不偏转时所述电子束的照射位置，所述周期性结构形成为绕所述中心的外围延伸360度且具有同心圆图形或者螺旋图形，所述同心圆图形或者螺旋图形的中心置位于为当电子束不偏转时所述电子束的照射位置的所述中心。