[发明专利]含有带甲硅烷基乙炔基基团的并苯-噻吩共聚物的电子器件有效

专利信息
申请号: 200780014279.7 申请日: 2007-04-13
公开(公告)号: CN101427381B 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 朱培旺;丹尼斯·E·沃格尔;李子成;克里斯托弗·P·格拉赫 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;C08G61/12;C08G81/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 郇春艳;樊卫民
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 描述了包含并苯-噻吩共聚物的电子器件和制造这种电子器件的方法。更具体地讲,所述并苯-噻吩共聚物具有连接的甲硅烷基乙炔基基团。所述共聚物可用于(例如)半导体层中或布置在第一电极和第二电极之间的层中。
搜索关键词: 含有 硅烷 乙炔 基团 噻吩 共聚物 电子器件
【主权项】:
1.一种电子器件,包含:a)共聚物层,所述共聚物层包含化学式I的并苯-噻吩共聚物,其中Ac为具有2至5个稠合苯环的并苯基,其中Ac可以任选由选自烷基、烷氧基、硫代烷基、芳基、芳烷基、卤素、卤代烷基、羟烷基、杂烷基、链烯基或它们的组合的取代基取代;Ra各自独立地选自氢、烷基、烷氧基、链烯基、芳基、杂芳基、芳烷基、杂芳烷基、杂烷基或羟烷基;Q是化学式II、III、IV或V的二价基团;R1和R2各自独立地选自氢、烷基、烷氧基、硫代烷基、芳基、芳烷基、卤素、卤代烷基、羟烷基、杂烷基或链烯基;以及n为大于或等于4的整数;和b)相邻于所述共聚物层的第一层,所述第一层包括导电层或介电层。
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