[发明专利]双折射膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200780015122.6 | 申请日： | 2007-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN101432644A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 宫崎顺三;井上彻雄;松田祥一;长塚辰树 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种薄型双折射膜，其中，可三维性地控制折射率。本发明涉及一种双折射膜，其中折射指数椭圆满足nx＞nz＞ny的关系，且至少含有1种具有-SO3M基及/或-COOM基的多环化合物(此处，M表示抗衡离子)。此类双折射膜，因显示较高的面内双折射率，故与现有的双折射膜相比，厚度为极薄，可获得所期望的相位差值。 | ||
| 搜索关键词： | 双折射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种双折射膜，其折射指数椭圆满足nx>nz>ny的关系，且含有至少1种具有-SO3M基及/或-COOM基的多环化合物，其中，M表示抗衡离子。
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