[发明专利]具有原位监视和过程参数调谐的等离子体处理方法无效
| 申请号： | 200780015283.5 | 申请日： | 2007-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101432865A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 安东尼·雷诺;维克拉姆·辛;阿塔尔·古普塔;提摩太·米勒;爱德温·阿雷瓦洛;乔治·帕帕守尔艾迪斯;田容培 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁 |
| 地址： | 美国麻*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种选择等离子体掺杂过程参数的方法，其包含确定一制法参数数据库以实现至少一个等离子体掺杂条件。根据所述制法参数数据库来确定初始制法参数。执行至少一个等离子体掺杂条件的原位测量。使所述至少一个等离子体掺杂条件的原位测量与至少一个等离子体掺杂结果相关。响应于所述相关而改变至少一个制法参数，以便改进至少一个等离子体掺杂过程性能量度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 原位 监视 过程 参数 调谐 等离子体 处理 方法 | ||
【主权项】：
1、一种选择等离子体掺杂过程参数的方法，其特征在于其包括：a. 确定制法参数数据库以实现至少一个等离子体掺杂结果；b. 根据所述制法参数数据库来确定初始制法参数；c. 执行至少一个等离子体掺杂条件的原位测量；d. 使所述至少一个等离子体掺杂条件的所述原位测量与至少一个等离子体掺杂结果相关；以及e. 响应于所述相关而改变至少一个制法参数，以便改进至少一个等离子体掺杂过程性能量度。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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