[发明专利]用于微光刻的具有四个透镜组的对称物镜

摘要

本发明特征在于一种用于微光刻的系统，该系统包括配置成发射多个汞发射谱线处的辐射的汞光源、设置成接收由汞光源发射的辐射的投影物镜以及配置成相对于投影物镜放置晶片的台。在操作期间，投影物镜将来自光源的辐射引导到晶片，其中在晶片处的辐射包括来自发射谱线中多于一条谱线的能量。用于所述投影物镜的光学透镜系统包括四个透镜组，每个透镜组具有两个包括二氧化硅的透镜，一方的第一和第二透镜组与另一方的第三和第四透镜组相对于与所述透镜系统的光轴垂直的平面对称放置。

主权项

1、一种用于将波长为λ的辐射从物区域引导到像区域的光学透镜系统，所述光学透镜系统具有光轴，所述光学透镜系统包括：包括沿所述光学透镜系统的光轴设置的第一透镜和第二透镜的第一透镜组；包括沿所述光学透镜系统的光轴设置的第一透镜和第二透镜的第二透镜组；包括沿所述光学透镜系统的光轴设置的第一透镜和第二透镜的第三透镜组；包括沿所述光学透镜系统的光轴设置的第一透镜和第二透镜的第四透镜组；其中：所述第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组中的每一个透镜组的所述第一透镜和第二透镜包括二氧化硅；所述第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组关于与所述光轴垂直的平面对称设置；所述第一透镜组具有对于辐射的第一色差；所述第二透镜组具有对于辐射的第二色差；所述第二色差的值与所述第一色差的值之间的差小于大约λ；以及所述第二色差的符号与所述第一色差的符号相反；以及其中所述光学透镜系统形成微光刻光学透镜系统的一部分。