[发明专利]有机异氰酸酯的产生方法无效
申请号: | 200780018675.7 | 申请日: | 2007-05-16 |
公开(公告)号: | CN101448783A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | M·哈斯;T·洛登坎帕;B·鲁弗 | 申请(专利权)人: | 拜尔材料科学股份公司 |
主分类号: | C07C263/10 | 分类号: | C07C263/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘维升;林 森 |
地址: | 德国莱*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及有机异氰酸酯的产生方法,包括通过CO与Cl2的反应产生光气,光气与有机胺反应以形成有机异氰酸酯,和有机异氰酸酯的分离,其特征在于一氧化碳通过与氯的反应以形成光气从来自异氰酸酯合成的包含HCl的废气除去。分离掉光气并且可以任选回加入到异氰酸酯合成中。包含HCl的耗尽CO的气体优选经过HCl氧化(迪肯)。在异氰酸酯合成中形成闭合的氯循环。 | ||
搜索关键词: | 有机 氰酸 产生 方法 | ||
【主权项】:
1. 有机异氰酸酯的生产方法,包括以下步骤:a)通过CO与Cl2反应生产光气,b)光气与有机胺反应以形成有机异氰酸酯,c)分离有机异氰酸酯,d)通过与氯反应以形成光气一氧化碳由来自异氰酸酯合成的包含HCl的废气分离,e)分离形成的光气,f)任选地,形成的光气再循环进入异氰酸酯合成,和g)任选地,光气分离e)前或后包含HCl的耗尽CO的气体经过HCl氧化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拜尔材料科学股份公司,未经拜尔材料科学股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780018675.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:焊接装配用水平转盘
- 下一篇:丙烯的制备方法及其工业装置