[发明专利]用于抛光氧化铝及氧氮化铝基材的组合物、方法及系统无效
| 申请号： | 200780019104.5 | 申请日： | 2007-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN101495271A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | 凯文·莫根伯格;穆克什·德赛 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;H01L21/304;C09G1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于氧化铝和/或氧氮化铝基材的改进的抛光或平坦化的方法及系统。具体而言，该组合物包含研磨剂、液体载体及磷型一元酸。优选地，该磷型一元酸为磷酸、膦酰基乙酸、亚磷酸、甲基膦酸、或其混合物。对该组合物的pH值的控制进一步改善抛光速率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 氧化铝 氮化 基材 组合 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种抛光基材的方法，包括以下步骤：提供包含研磨剂、液体载体及磷型一元酸的组合物，其中所述组合物具有1-7的pH值；提供选自氧化铝及氧氮化铝的基材；提供用于物理研磨该基材的装置；及通过将该基材与该用于物理研磨该基材的装置及该组合物接触而磨除该基材的至少一部分。
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