[发明专利]导电性填料有效
申请号: | 200780019243.8 | 申请日: | 2007-06-26 |
公开(公告)号: | CN101454115A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 田中轨人;白鸟刚 | 申请(专利权)人: | 旭化成电子材料元件株式会社 |
主分类号: | B23K35/26 | 分类号: | B23K35/26 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能在比Sn-37Pb共晶焊料的回流热处理条件温度低的低温条件(峰温度181℃以上)下熔融接合,可以在同等耐热用途中使用的导电性填料。该导电性填料是第1金属颗粒和第2金属颗粒的混合物,其混合比是相对于100质量份第1金属颗粒,包含20~10000质量份第2金属颗粒;所述第1金属颗粒由具有25~40质量%Ag、2~8质量%Bi、5~15质量%Cu、2~8质量%In和29~66质量%Sn的组成的合金形成,所述第2金属颗粒由具有5~20质量%Ag、10~20质量%Bi、1~15质量%Cu和50~80质量%Sn的组成的合金形成。 | ||
搜索关键词: | 导电性 填料 | ||
【主权项】:
1. 一种导电性填料,其特征在于,其是第1金属颗粒和第2金属颗粒的混合物,其混合比是相对于100质量份第1金属颗粒,第2金属颗粒为20~10000质量份;所述第1金属颗粒由具有25~40质量%Ag、2~8质量%Bi、5~15质量%Cu、2~8质量%In和29~66质量%Sn的组成的合金形成,所述第2金属颗粒由具有5~20质量%Ag、10~20质量%Bi、1~15质量%Cu和50~80质量%Sn的组成的合金形成。
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