[发明专利]调整气相沉积靶的方法和系统无效
| 申请号： | 200780019632.0 | 申请日： | 2007-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN101466861A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | M·伊利克;R·赫夫;G·麦克多诺 | 申请（专利权）人： | 先进能源工业公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 苗 征;于 辉 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了用于调整气相沉积靶的方法和系统。在一个示例性实施方案中，运行其中使用气相沉积靶的气相沉积系统，探测气相沉积系统中发生的电弧，通过调节驱动气相沉积系统的电源的输出电流并调节将能量输送到各电弧所用的时间，而将基本相同的能量输送到各电弧，来调整气相沉积靶。在某些实施方案中，输送到各电弧的能量近似等于气相沉积靶在不被损坏条件下所能承受的最大能量。所述方法和系统显著缩短了从靶去除杂质所需的时间，并且不需要真空室的排气或从真空室移出靶。 | ||
| 搜索关键词： | 调整 沉积 方法 系统 | ||
【主权项】：
1. 用于调整气相沉积靶的方法，其包括：运行其中使用气相沉积靶的气相沉积系统；探测气相沉积系统中发生的电弧；并通过调节驱动气相沉积系统的电源的输出电流并调节将能量输送到各电弧所用的时间，以将基本相同的能量输送到各电弧，来调整气相沉积靶。
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