[发明专利]大气压等离子体产生方法、等离子体处理方法和使用其的部件安装方法、以及使用这些方法的装置无效
| 申请号： | 200780019833.0 | 申请日： | 2007-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101455127A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 辻裕之;井上和弘 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张 鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 将第一惰性气体(5)供给到反应空间(1)中并且高频电源(4)施加高频电场以便从反应空间喷射由已成为等离子体的第一惰性气体构成的初级等离子体(6)。形成其中混合气体(8)具有作为主要成分的第二惰性气体(12)和相混合的适量活性气体(13)的混合气体区(10)。初级等离子体碰撞到混合气体区以产生由已成为等离子体的混合气体构成的二次等离子体(11)，接着将二次等离子体喷雾到处理对象(S)上以进行等离子体处理。因此，通过由小输入功率产生的大气压等离子体可以在宽泛范围内进行等离子体处理。 | ||
| 搜索关键词： | 大气压 等离子体 产生 方法 处理 使用 部件 安装 以及 这些 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种用于产生大气压等离子体的方法，包括：等离子体产生步骤，将第一惰性气体(5)供给到反应空间(1，24)并施加高频电场以从所述反应空间喷射由已成为等离子体的所述第一惰性气体构成的初级等离子体(6)；以及等离子体扩展步骤，形成包含作为主要成分的第二惰性气体(12)和与之混合的适量活性气体(13)的混合气体区(10，29)以使所述初级等离子体与之碰撞以便产生由已成为所述等离子体的所述混合气体(8)构成的二次等离子体(11)。
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