[发明专利]用于光学透明通路填充的工艺有效
| 申请号： | 200780019844.9 | 申请日： | 2007-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN101454700A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·S·纳什内尔;杰弗里·豪尔顿;吕维熊 | 申请（专利权）人： | ESI电子科技工业公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孟 锐 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭示一种用光学透射材料形成填充通路的方法及所得的产品。所述方法包括：在面板中钻制通路及用光学透射材料填充所述通路。所述方法还可用来形成外壳的透光区段。可通过所述光学透射材料看到定向到所述通路的一个侧的光源，以使观察所述通路的第二侧处的表面的观察者可看见所述光源。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 透明 通路 填充 工艺 | ||
【主权项】：
1、一种用光学透射材料形成填充通路的方法，其包括：在面板中钻制通路；及用光学透射材料填充所述通路。
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