[发明专利]用于制作太阳能电池的等离子沉积设备和方法无效
申请号: | 200780021473.8 | 申请日: | 2007-04-13 |
公开(公告)号: | CN101479403A | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | 吴道;M·A·阿斯拉米 | 申请(专利权)人: | 硅石技术责任有限公司;吴道 |
主分类号: | C23C16/507 | 分类号: | C23C16/507;C23C16/54;H01L31/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 柯广华;王丹昕 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于制作太阳能电池的等离子沉积设备包括:具有用于支撑至少一个衬底的纵轴线的输送机;至少两个模块,每个模块具有用于在至少一个衬底上沉积反应产物层的至少一个等离子炬,至少一个等离子炬位于离至少一个衬底一段距离的位置;用于容纳输送机和该至少两个模块的室;以及排气系统。在另一实施例中,用于制作太阳能电池的等离子沉积设备包括:用于支撑衬底的部件;用于供应反应物的部件;用于在衬底上沉积产物的等离子炬部件,等离子炬部件位于离衬底一段距离的位置;以及用于相对于衬底振荡等离子炬部件的部件。 | ||
搜索关键词: | 用于 制作 太阳能电池 等离子 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种用于制作太阳能电池的等离子沉积设备,包括:用于支撑衬底的部件;用于供应反应物的部件;以及用于在所述衬底上沉积产物的等离子炬部件,所述等离子体炬部件位于离所述衬底一段距离的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅石技术责任有限公司;吴道,未经硅石技术责任有限公司;吴道许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780021473.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:对破裂的多室固体电解质气体传感器的诊断
- 下一篇:液压泵
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的