[发明专利]离子注入机内的射束角度调节有效
| 申请号： | 200780022054.6 | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101490791A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 宝·梵德伯格;吴向阳 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/147 | 分类号： | H01J37/147;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 导引元件包括在离子注入系统内，以将离子射束引导或“导引”到导引元件下游的扫描元件的扫描顶点。这样，扫描元件的扫描顶点与扫描元件下游的平行化元件的聚焦点重合。这允许射束以期望的角度从平行化元件射出，以使得可以将离子以期望的方式注入到位于平行化元件的下游的工件内。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 角度 调节 | ||
【主权项】：
1. 一种校正离子注入系统内的注入角度的方法，所述方法包括以下步骤：在离子注入系统内生成离子射束；确定所述离子射束相对于由射束将离子注入到其内的工件的机械表面的注入角度分布，和所述离子射束相对于系统内的射束诊断的校准参考的注入角度分布中的至少一个注入角度分布；确定角度是否可接受；以及如果所述角度不可接受，则调节导引电压以校正所述射束。
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