[发明专利]包括氧化铝和/或含钛材料的CVD涂覆方案及其制造方法

摘要

包括一个基体(22)和在基体上的一个涂覆方案(36)的一种涂覆体(20)。该涂覆方案包括一个CVD碳氮化钛涂层(41)，该涂层含有具有预选定粒径的碳氮化钛颗粒。该涂覆方案进一步包括一个第一含钛/铝涂层(48，52，56)，该第一含钛/铝涂层含有第一含钛/铝颗粒，这些颗粒被涂覆为使其比该碳氮化钛涂层离基体更远。这些第一含钛/铝颗粒具有一个预选定的粒径。该涂覆方案还包括一个CVD氧化铝涂层(50，54，58)，该氧化铝涂层含有氧化铝颗粒，这些颗粒被涂覆为使其比该第一含钛/铝涂层离基体更远。这些氧化铝颗粒具有一个预选定的粒径。

主权项

1. 一种涂覆体，包括：一个基体和在该基体上的一个涂覆方案，其中该涂覆方案包括：含有碳氮化钛颗粒的一个碳氮化钛涂层，并且该碳氮化钛涂层是通过化学气相沉积在一个选定的持续时间进行涂覆以便在一个预选定的粒径终止这些碳氮化钛颗粒的生长，并且碳氮化钛涂层的厚度范围是在等于约0.5微米的一个下限和等于约25微米的一个上限之间；含有第一含钛/铝颗粒的一个第一含钛/铝涂层，并且该第一含钛/铝涂层是通过化学气相沉积在一个选定的持续时间进行涂覆以便在一个预选定的粒径终止这些第一含钛/铝颗粒的生长，并且该第一含钛/铝涂层的厚度范围在大于等于零微米的一个下限和等于约5微米的一个上限之间，并且该第一含铝/钛涂层比该碳氮化钛涂层离基体更远；以及含有氧化铝颗粒的一个氧化铝涂层，并且该氧化铝涂层是通过化学气相沉积在一个选定的持续时间进行涂覆以便在一个预选定的粒径终止这些氧化铝颗粒的生长，并且该氧化铝涂层厚度的范围在大于等于零微米的一个下限和等于约5微米的一个上限之间，并且该氧化铝涂层比该含铝/钛涂层离基体更远。