[发明专利]多管成像系统散射校正有效
申请号: | 200780022974.8 | 申请日: | 2007-06-13 |
公开(公告)号: | CN101472524A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | B·戴维;M·格拉斯;A·F·莱瓦尔特;R·皮蒂格 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王 英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种计算机断层摄影重建方法包括从至少两个X射线源(14)同时发射辐射,在多个分别的交叉散射采样间隔(50,52,54,56)内切换所述至少两个X射线源(14)中每一个的输出状态,并用相应的一组探测器(24)探测由所述至少两个X射线源(14)中其他的所发射的交叉散射辐射,其中,交叉散射采样间隔在多个帧上有角间距,以允许至少两个X射线源(14)贯穿至少一个帧同时发射辐射,从相应的交叉散射样本中导出每组探测器(24)的散射校正数据,用相应的散射校正数据对投影数据进行散射校正,以及对散射校正后的投影数据进行重建进而生成至少一幅图像。 | ||
搜索关键词: | 成像 系统 散射 校正 | ||
【主权项】:
1、一种计算机断层摄影重建方法,包括:从围绕成像区域(22)旋转的至少两个X射线源(14)同时发射辐射通过所述成像区域(22),并用相应的各组探测器(24)探测投影数据,所述投影数据包括由所述至少两个X射线源(14)中相应的一个发射的原发辐射和由所述至少两个X射线源(14)中另一个发射的交叉散射辐射;在多个分别的交叉散射采样间隔(50,52,54,56)内切换所述至少两个X射线源(14)中每一个的输出状态,并用所述各组探测器(24)中相应的一组探测由所述至少两个X射线源(14)中其他的所发射的交叉散射辐射,其中,所述交叉散射采样间隔在多个帧上有角间距,以允许所述至少两个X射线源(14)贯穿至少一个帧同时发射辐射;从相应的交叉散射样本中导出每组探测器(24)的散射校正数据;用相应的散射校正数据来散射校正所述投影数据;以及重建所述散射校正后的投影数据来生成至少一幅图像。
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