[发明专利]金属膜制造方法、底层组合物、金属膜及其用途有效
| 申请号： | 200780024017.9 | 申请日： | 2007-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101479404A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 森哲也;中岛诚二 | 申请（专利权）人： | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号： | C23C18/18 | 分类号： | C23C18/18;C23C18/20;H05K1/03;H05K3/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属膜制造方法，该方法包括：有机膜形成步骤：将含有具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、和具有亲水性官能团的加成聚合化合物的底层组合物涂布于基板或膜上，并进行聚合，形成有机膜；金属盐生成步骤：用含有金属(M1)离子的水溶液对所述有机膜进行处理，将所述酸性基团转化为金属(M1)盐；金属固定步骤：用金属(M2)离子水溶液对上述用含有金属(M1)离子的水溶液处理过的有机膜进行处理，将所述酸性基团的金属(M1)盐转化为金属(M2)盐，其中，所述金属(M2)离子水溶液含有离子化倾向比所述金属(M1)离子低的金属(M2)离子；和，还原步骤：对所述金属(M2)离子进行还原，在所述有机膜表面形成金属膜。由此，可以高效地制造金属膜，特别是金膜。 | ||
| 搜索关键词： | 金属膜 制造 方法 底层 组合 及其 用途 | ||
【主权项】：
1. 一种金属膜制造方法，该方法包括：有机膜形成步骤：将包含具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、和具有亲水性官能团的加成聚合化合物的底层组合物涂布于基板或膜上，并进行聚合，形成有机膜；金属盐生成步骤：用含有金属(M1)离子的水溶液对所述有机膜进行处理，将所述酸性基团转化为金属(M1)盐；金属固定步骤：用金属(M2)离子水溶液对经上述含有金属(M1)离子的水溶液处理过的有机膜进行处理，将所述酸性基团的金属(M1)盐转化为金属(M2)盐，所述金属(M2)离子水溶液含有离子化倾向比所述金属(M1)离子低的金属(M2)离子；和还原步骤：对所述金属(M2)离子进行还原，在所述有机膜表面形成金属膜。
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- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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