[发明专利]利用胶体二氧化硅的氧化硅抛光方法无效
| 申请号： | 200780024138.3 | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN101479836A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 本杰明·拜尔;陈湛;杰弗里·张伯伦;罗伯特·瓦卡西 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的方法包括用包含液体载体及溶胶-凝胶胶体二氧化硅研磨剂颗粒的抛光组合物来化学-机械抛光基板。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 胶体 二氧化硅 氧化 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种化学-机械抛光基板的方法，该方法包括：(i)提供包含至少一层氧化硅的基板，(ii)提供化学-机械抛光组合物，该抛光组合物包含：(a)液体载体，及(b)悬浮于该液体载体中的具有20nm至30nm平均初级粒径的溶胶-凝胶胶体二氧化硅研磨剂颗粒，(iii)使该基板接触抛光垫和该化学-机械抛光组合物，(iv)相对于该抛光垫和该化学-机械抛光组合物移动该基板，及(v)磨除该氧化硅的至少一部分以抛光该基板。
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