[发明专利]晶片等级的光学组件对准无效
| 申请号： | 200780024572.1 | 申请日： | 2007-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN101501543A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | A·戈贝尔;L·C·韦斯特;G·L·武伊齐克 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12;G02B6/26;G02B6/30;G02B6/42 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陆 嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭示制造一光学组件的方法。在一光学材料板的第一表面附近或之上置放一主动式光学组件。于该板的一第二表面上形成一被动式光学组件，该第二表面是大致平行于该第一表面。使用一种微影对准工艺，将该被动式光学组件的光轴对准于该被动光学组件及该主动式光学组件的主动区之间的光学路径。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 等级 光学 组件 对准 | ||
【主权项】：
1. 一种制造光学组件的方法，该方法包括：在光学材料板的第一表面附近或之上置放主动式光学组件；在该光学材料板的第二表面上形成一被动式光学组件，其中该第二表面是大致平行于该第一表面；以及使用一种微影对准工艺，将该被动式光学组件的光轴对准于该被动光学组件及该主动式光学组件的主动区之间的光学路径。
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