[发明专利]包括辐射源模块和冷却装置的流体处理系统有效
| 申请号： | 200780026589.0 | 申请日： | 2007-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN101489939A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | W·希恩;G·格鲁尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;H01J65/04;B01J19/12;B01D53/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 景军平;刘 红 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种流体处理系统，包括带有用于工艺流体的流体入口和流体出口的壳体、设置在该流体入口和流体出口之间的辐射区、和包括至少一个辐射源的至少一个辐射源模块，该辐射源包括具有外壁和内壁的放电容器，该内壁封闭内部体积，该内部体积具有至少一个开口和用于点火并维持放电的装置，该辐射源模块还包括可潜入框架，该框架具有将该工艺流体导入并导出该辐射源的内部体积的引导装置。在放电间隙中通过放电产生的、经由这种灯的内部体积内的流体流动并与这些内部电极接触的热耗散基本上比经由从该内部电极分离的冷却通道的耗散更有效。因此基本上比较容易将这种放电气体保持在近乎最佳的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 辐射源 模块 冷却 装置 流体 处理 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种流体处理系统，所述流体处理系统包括：带有用于工艺流体的流体入口和流体出口的壳体；设置在所述流体入口和流体出口之间的照射区；以及包括至少一个辐射源的至少一个辐射源模块，所述辐射源包括带有外壁和内壁的放电容器，所述内壁封闭具有至少一个开口和用于点火并维持放电的装置的内部体积，所述辐射源模块还包括可潜入的框架，所述可潜入的框架带有引导装置以将所述工艺流体导入和导出所述辐射源的内部体积。
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