[发明专利]用于抛光低介电材料的抛光液无效
| 申请号： | 200780027182.X | 申请日： | 2007-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN101490734A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 陈国栋;宋伟红;荆建芬;徐春;顾元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G09G1/02 | 分类号： | G09G1/02;C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 中国上海市浦东新区张江高科技园*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于抛光低介电材料的抛光液，该抛光液包括掺铝二氧化硅磨料和水，其特征在于：还包括含铵根离子或季铵类的小分子活性物质。本发明的抛光液对低介电材料CDO以及TEOS、SiON等材料的抛光具有促进作用，但对钽、铜的抛光速率无明显的影响，因此可以大大提供衬底的抛光选择性，并且本发明的抛光液可以大大降低衬底表面的刮痕、腐蚀、点蚀等衬底表面缺陷问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 低介电 材料 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780027182.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
