[发明专利]用于使移动的基板上的薄膜图案化的方法及工具

摘要

一种用来自脉冲激光束(3，10)的辐射直接对基板(1，5)上的薄膜(2)进行烧蚀从而在薄膜中形成有规律地重复的图案的方法，其特征在于，使辐射束(3，10)穿过用于描绘该图案的合适的掩模(7)，通过合适的投影透镜(8)将掩模图案的图像缩小到薄膜(2)的表面上，使得薄膜处的能量密度足够高以使薄膜(2)经烧蚀而被直接除去，执行以下印刻步骤：(i)在一连串重复的不连续的激光烧蚀步骤中，使用掩模(7)，掩模(7)相对于投影透镜(8)是静止的而且只代表基板(1，5)的整个区域的一小块区域，并且在每一个步骤中使用单一短脉冲辐射(3)来照明掩模(7)，辐射脉冲在基板(1，5)处的能量密度高于用于烧蚀薄膜(2)的阀值；以及(ii)通过沿着与将要在基板上形成的图案的一个轴相平行的方向(X1)移动激光束(3，10)或基板(1，5)并且当基板(1，5)或激光束(3，10)已移动了一段相当于基板(1，5)上重复的图案的整倍数周期的距离时立即激活脉冲激光掩模照明光源，在基板(1)的整个表面区域上重复上述一连串的不连续的激光烧蚀步骤，从而给出包含多个像素的完整图案。

主权项

1. 一种用来自脉冲激光束(3，10)的辐射直接对基板(1，5)上的薄膜(2)进行烧蚀从而在薄膜中形成有规律地重复的图案的方法，其特征在于，使辐射束(3，10)穿过用于描绘该图案的合适的掩模(7)，通过合适的投影透镜(8)将掩模图案的图像缩小到薄膜(2)的表面上，使得薄膜处的能量密度足够高以使薄膜(2)经烧蚀而被直接除去，执行以下印刻步骤：(i)在一连串重复的不连续的激光烧蚀步骤中，使用掩模(7)，掩模(7)相对于投影透镜(8)是静止的而且只代表基板(1，5)的整个区域的一小块区域，并且在每一个步骤中使用单一短脉冲辐射(3)来照明掩模(7)，辐射脉冲在基板(1，5)处的能量密度高于用于烧蚀薄膜(2)的阀值；以及(ii)通过沿着与将要在基板上形成的图案的一个轴相平行的方向(X1)移动激光束(3，10)或基板(1，5)并且当基板(1，5)或激光束(3，10)已移动了一段相当于基板(1，5)上重复的图案的整倍数周期的距离时立即激活脉冲激光掩模照明光源，在基板(1)的整个表面区域上重复上述一连串的不连续的激光烧蚀步骤，从而给出包含多个像素的完整图案。