[发明专利]用于提高氧化物移除速率的镓与铬离子有效
| 申请号： | 200780027264.4 | 申请日： | 2007-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN101490204A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·格鲁姆比尼 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学-机械抛光组合物，其包含二氧化硅；其量足以提供0.2mM至10mM的选自镓(III)、铬(II)及铬(III)的金属阳离子的化合物；及水，其中该抛光组合物具有1至6的pH值。本发明进一步提供一种用前述抛光组合物化学-机械抛光基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提高 氧化物 速率 离子 | ||
【主权项】：
1. 一种化学-机械抛光组合物，其包含：(a)二氧化硅，(b)其量足以提供0.2mM至10mM的选自镓(III)、铬(II)及铬(III)的金属阳离子的化合物，及(c)水，其中该抛光组合物具有1至6的pH值。
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