[发明专利]多孔膜的前体组合物及其制备方法、多孔膜及其制作方法、以及半导体装置有效
申请号: | 200780027621.7 | 申请日: | 2007-05-16 |
公开(公告)号: | CN101490145A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 藤井宣年;中山高博;高村一夫;田中博文 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C08J9/36 | 分类号: | C08J9/36;C08G77/18;C09D5/25;C09D7/12;C09D183/04;H01L21/312;H01L21/316 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈 昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及含有选自式Si(OR1)4和Ra(Si)(OR2)4-a(式中,R1表示1价的有机基团,R表示氢原子、氟原子或1价的有机基团,R2表示1价的有机基团,a为1~3的整数,R、R1和R2可以相同或不同。)所示的化合物、热解性有机化合物、起催化作用的元素、和尿素等的前体组合物。对由该前体组合物得到的多孔膜照射紫外线后,与疏水性化合物发生气相反应,使用得到的多孔膜,得到半导体装置。 | ||
搜索关键词: | 多孔 组合 及其 制备 方法 制作方法 以及 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.多孔膜的前体组合物,其特征在于,含有选自下述通式(1)所示的化合物(A)和下述通式(2)所示的化合物(B)的至少1种化合物,Si(OR1)4 (1)Ra(Si)(OR2)4-a (2)上述式(1)和(2)中,R1表示1价的有机基团,R表示氢原子、氟原子或1价的有机基团,R2表示1价的有机基团,a为1~3的整数,R、R1和R2相同或不同;和在250℃以上发生热解的热解性有机化合物(C);和选自电负性2.5以下的两性元素、离子半径
以上的元素和原子量130以上的元素中的至少1种元素(D);以及化合物(E),该化合物(E)在90℃~200℃的温度范围内热解,且通过该热解生成胺类,在该热解温度以下,该化合物(E)的水溶液和/或水与醇的混合溶液的pH处于6.5~8的范围内。
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