[发明专利]用流体承载的定位盘以及用于使激光光学器件相对于该定位盘的轴偏置的装置进行激光微加工的光学组件无效
| 申请号： | 200780027991.0 | 申请日： | 2007-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN101605627A | 公开（公告）日： | 2009-12-16 |
| 发明（设计）人： | M·哈曼 | 申请（专利权）人： | 厄利肯鲍泽斯涂层（英国）有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/04 | 分类号： | B23K26/04;B23K26/14;B23K26/08;B23K26/42;B60V1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 李 玲 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种激光光学组件，其包括：光学头(12)，其带有成像或聚焦透镜以及透镜控制装置并且适于提供激光束(14)，从而沿着射束(14)的轴在组件的基准点处产生掩膜图像或射束焦点(13)；工作站(W)，其适于使基板工件(15)相对于基准点定位，从而使掩膜图像或射束焦点(13)沿垂直于通过工作站(W)定位的基板工件(15)的射束(14)的轴定位；该工作站(W)还适于使工件(15)在给定的方向(X，Y)中横切射束(14)的轴位移；定位盘(11)以及可在工作站(W)上的基板工件(15)的定位盘区上面流体承载该定位盘的装置；以及连接装置，其将定位盘(11)与光学头连接，以致定位盘(11)能够使光学头(12)相对于轴向(X，Y)位移；以及偏置装置(D)，由此至少当定位盘(11)被流体承载时，定位盘(11)以及定位盘轴(P’)在垂直于射束(14)的轴的方向中偏离激光射束(14)的轴。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 承载 定位 以及 用于 激光 光学 器件 相对于 偏置 装置 进行 加工 组件 | ||
【主权项】：
1.一种激光光学组件，其包括：光学头(12)，其带有成像或聚焦透镜以及透镜控制装置并且适于提供激光束(14)，从而沿着射束(14)的轴在该组件的基准点处产生掩膜图像或射束焦点(13)；工作站(W)，其适于使基板工件(15)相对于基准点而定位，从而使掩膜图像或射束焦点(13)沿着射束(14)的轴而定位，射束(14)的轴垂直于通过工作站(W)而定位的基板工件(15)；该工作站(W)还适于使工件(15)在给定的方向(X，Y)中横切射束(14)的轴而进行位移；定位盘(11)以及用于在工作站(W)上的基板工件(15)的定位盘区域上面流体承载该定位盘的装置；以及连接装置，其将定位盘(11)与光学头连接，以致定位盘(11)能够使光学头(12)相对于轴向(X，Y)进行位移；其特征在于偏置装置(D)，由此至少当定位盘(11)被流体承载时，在垂直于射束(14)的轴的方向中定位盘(11)和定位盘轴(P’)离激光射束(14)的轴有一定的偏移。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厄利肯鲍泽斯涂层（英国）有限公司，未经厄利肯鲍泽斯涂层（英国）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780027991.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
