[发明专利]光刻系统、热消散方法和框架有效
| 申请号： | 200780028526.9 | 申请日： | 2007-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN101495922A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | 米歇尔·彼得·丹斯贝格;彼得·克勒伊特;马尔科·扬-哈科·威兰 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;张 英 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将图像或图案投射到诸如晶片之类的靶上的光刻系统。将由图像或图案的投射而积聚在该靶上的能量从所述靶上除去，以致因局部或整体加热导致的膨胀被限制于相应的预定值，并且其中这样的热移出是利用了在与所述靶热接触的热吸收材料中的相变而实现。进一步地，可以将该材料与具有优异传热系数的其他材料结合应用，并可以混合在含有一种具有优异传热系数的材料的乳状液中。例如，可将所述材料粘附于该靶的底面，并且也可以包括在一个框架中。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 消散 方法 框架 | ||
【主权项】：
1.一种用于将图像或图案投射到诸如晶片之类的靶上的光刻系统，其中，因图像或图案的投射而累积在靶上的能量被从所述靶上移除，以致由所述靶的局部和/或整体加热引起的膨胀被限制在相应的预定值，并且其中这样的热移除是通过利用在一种与所述靶热接触的吸热材料中的相变来实现。
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