[发明专利]负性工作元件的成像和显影方法无效
| 申请号： | 200780031821.X | 申请日： | 2007-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN101632041A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | T·陶;K·B·雷;S·A·贝克利;P·R·韦斯特 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;B41C1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵苏林;范 赤 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 负性工作的可成像元件可在成像后用pH值低的有机基的单相显影剂进行显影，该显影剂的毒性和腐蚀性较低，且在使用后可更方便地对其进行显影。该显影剂的pH值小于12，且包含a)含有含氮杂环的两性表面活性剂，b)具有两个或多个氮原子的两性表面活性剂，或者c)a)的两性表面活性剂和b)的两性表面活性剂。 | ||
| 搜索关键词： | 工作 元件 成像 显影 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提供成像的和显影的元件的方法，包括：A)使用激光器对负性工作的可成像元件进行成像曝光，该元件包括基材，在其上具有可成像层来提供曝光和非曝光区域，所述可成像层包含：可自由基聚合的组分，引发剂组合物，其能够产生足够的自由基，以在暴露于成像辐射时引发所述可自由基聚合的组分聚合，辐射吸收化合物，以及聚合粘合剂，和B)使所述经成像曝光的元件与单相显影剂接触，仅除去所述非曝光区域而提供显影的元件，其中所述显影剂的pH小于12且包含：a)包含含氮杂环的两性表面活性剂，b)具有两个或更多氮原子的两性表面活性剂，或c)a)中的两性表面活性剂和b)中的两性表面活性剂。
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