[发明专利]一种制备聚合浮雕结构的方法无效
| 申请号： | 200780032490.1 | 申请日： | 2007-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN101535900A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 寇·赫曼斯;科尼利厄斯·威廉默斯·玛丽亚·巴司蒂安森;迪克·布尔;乔克·佩尔勒 | 申请（专利权）人： | 斯蒂茨丁荷兰聚合物学会 |
| 主分类号： | G03F7/36 | 分类号： | G03F7/36 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 肖善强;南 霆 |
| 地址： | 荷兰埃*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备聚合浮雕结构的方法，所述方法包括如下步骤：a)采用含有一种或多种辐射敏感成分的涂料组合物涂敷基材；b)采用具有周期性的或无规的辐射-强度图案的电磁辐射对经涂敷的基材进行局部处理，形成潜在图像；c)使所得经涂敷的基材聚合并且/或者交联，其中，所述涂料组合物包含一种或多种自由基清除剂，其用量足以抑制/延缓经涂敷基材的未经处理区域的实际聚合，并且用量足够低从而允许经处理区域在步骤c中发生聚合和/或交联，附加条件是，所述涂料组合物中氧的含量不等于当所述涂料组合物与空气接触时存在的氧的平衡量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 聚合 浮雕 结构 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种制备聚合浮雕结构的方法，所述方法包括如下步骤：a)采用含有一种或多种辐射敏感成分的涂料组合物涂敷基材；b)采用具有周期性的或无规的辐射-强度图案的电磁辐射对经涂敷的基材进行局部处理，形成潜在图像；c)使所得经涂敷的基材聚合并且/或者交联，其中，所述涂料组合物包含一种或多种有机自由基清除剂，其用量足以抑制/延缓经涂敷基材的未经处理区域的实际聚合，并且用量足够低从而允许经处理区域在步骤c中发生聚合和/或交联，附加条件是，所述涂料组合物中氧的含量不等于当所述涂料组合物与空气接触时存在的氧的平衡量。
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