[发明专利]污染性评价方法、污染性评价装置、光学部件的制造方法、光学叠层体以及显示器产品有效
| 申请号： | 200780033180.1 | 申请日： | 2007-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN101512323A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 伊藤洁 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/94 | 分类号： | G01N21/94 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可适用于各种部件、再现性高、可检测微妙的污迹差异的防污性定量的污染性评价方法、污染性评价装置、光学部件的制造方法、以及具有防指纹附着性、抗污染性、从污染的恢复度的光学叠层体、和具有该光学叠层体的显示器产品。本发明的染性评价方法对试验体照射光，检测在该试验体上反射或透射的散射光，评价上述试验体的表面的污染程度。 | ||
| 搜索关键词： | 污染 评价 方法 装置 光学 部件 制造 叠层体 以及 显示器 产品 | ||
【主权项】：
1. 一种污染性评价方法，其特征在于，对试验体照射光，检测在该试验体上反射或透射的散射光，来评价上述试验体的表面的污染程度。
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