[发明专利]用于监视介质状况的方法与设备有效
| 申请号： | 200780035102.5 | 申请日： | 2007-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101517399A | 公开（公告）日： | 2009-08-26 |
| 发明（设计）人： | J·万哈宁;M·林吉奥;P·图尔马;J·科尔皮-托莫拉;K·劳伯格;J·埃尔夫斯特罗姆 | 申请（专利权）人： | 莫文塔斯有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/85 | 分类号： | G01N21/85 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李镇江 |
| 地址： | 芬兰于*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于通道(33)中光的发送/发射来监视介质(50)的状况的方法，其中：光被引导通过由测量头(12)中测量间隙(13.1)定义的介质层，其中测量头(12)是从通道(33)的壁(30)的开口(31)推入的；测量通过介质层的光的强度或者与其成比例的变量；及根据设定的准则，利用测量电子装置(15)从强度的变化评估介质的状况。测量是利用具有紧凑测量头的传感器(10)执行的，其中测量电子装置(15)基本上在通道(33)的外面，而且其中光是由光纤装置(18、18.1、18.2)引导到测量间隙并从测量间隙离开的。此外，本发明还涉及对应的设备(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监视 介质 状况 方法 设备 | ||
【主权项】：
1、一种用于根据光的发送/发射来监视通道(33)中介质(50)的状况的方法，其中-光被引导通过由测量头(12)中的测量间隙(13.1)定义的介质层，其中测量头(12)是从通道(33)的壁(30)中的开口(31)推入的，-测量通过介质层的光的强度或者与强度成比例的变量，及-根据为介质(50)的状况设定的准则，利用测量电子装置(15)从强度的变化评估介质的状况，所述方法的特征在于，测量是利用具有紧凑测量头(12)的传感器(10)执行的，其中测量电子装置(15)基本上在通道(33)的外面，而且其中光是由光纤装置(18、18.1、18.2)引导到测量间隙(13.1)并离开所述测量间隙(13.1)的。
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