[发明专利]金属的陶瓷被膜涂布方法和用于该方法的电解液以及陶瓷被膜和金属材料无效

专利信息
申请号: 200780036437.9 申请日: 2007-09-12
公开(公告)号: CN101522957A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 吉冈信明;山下昌利;小西知义 申请(专利权)人: 日本帕卡濑精株式会社
主分类号: C25D11/04 分类号: C25D11/04;C25D11/06;C25D11/26;C25D11/30
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴 娟;李炳爱
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供金属的陶瓷被膜涂布方法,该方法对镁合金等各种金属基材形成致密的被膜,所得被膜的耐磨性优异,对配对材料的攻击性低,并且耐腐蚀性优异。该方法是在电解液中,以金属基体作为工作电极,在金属基体的表面上产生辉光放电和/或电弧放电的同时进行电解处理,在金属基体表面形成陶瓷被膜的金属的陶瓷被膜涂布方法,其中,电解液含有平均粒径1μm以下的氧化锆粒子,将电解液中的氧化锆粒子之含量表示为X,将氧化锆以外的选自Mg等至少1种元素的化合物之含量表示为Y时,满足下式(1)-(3),pH为7.0以上,0.05g/L≤X≤500g/L (1);0g/L≤Y≤500g/L (2);0≤Y/X≤10 (3)。
搜索关键词: 金属 陶瓷 被膜涂布 方法 用于 电解液 以及 金属材料
【主权项】:
1. 金属的陶瓷被膜涂布方法,所述方法为在电解液中,将金属基体作为工作电极,在所述金属基体的表面上产生辉光放电和/或电弧放电的同时进行电解处理,在所述金属基体的所述表面上形成陶瓷被膜的金属的陶瓷被膜涂布方法,其中,所述电解液含有平均粒径1μm以下的氧化锆粒子,将所述电解液中所述氧化锆粒子之含量表示为X,将氧化锆以外的选自Mg、Al、Si、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Ba、La、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Bi、Ce、Nd、Gd和Ac的至少1种元素的化合物之含量表示为Y时,满足下式(1)-(3),pH为7.0以上,0. 05g/L≤X≤500g/L (1)0g/L≤Y≤500g/L (2)0≤Y/X≤10 (3)。
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