[发明专利]前体输送系统有效
| 申请号： | 200780037724.1 | 申请日： | 2007-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101522943A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | K·方朱尔利亚;E·舍罗;M·E·维吉斯;C·L·怀特 | 申请（专利权）人： | ASM美国公司 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种前体源器具(100)包括器具本体(104)、在器具本体(104)内的通道(145)以及附连到本体(104)的表面的阀门(108，110，210)。内部腔室(111)适于容纳化学反应物，而且通道(145)从本体(104)外部延伸到腔室(111)。阀门(108，110，210)调节穿过通道(145)的流动。器具(100)具有入口阀门和出口阀门(108，110)，且可选择地具有用于排出内部气体的通风阀门(210)。外部气体面板(97)可以包括流动地插入在出口阀门(110)与衬底反应腔室(162)之间的至少一个阀门(182)。每个气体面板阀门(182)可以沿一平面放置，该平面基本平行于器具(100)的平坦表面并且距离该平坦表面不超过大约10.0cm。器具盖(106)或壁中的过滤器(130)过滤通过器具的阀门(108，110，210)的气流。快速连接组件(102)允许将器具(100)快速且容易地连接到气体面板(97)。 | ||
| 搜索关键词： | 输送 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种化学反应物源器具，包括：器具本体，其限定内部腔室，该内部腔室适于容纳固体或液体化学反应物；通道，其在所述器具本体内，所述通道从所述器具本体的外部延伸到所述腔室；和阀门，其直接附连到所述器具本体的表面并被配置为调节经过所述通道的流动。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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