[发明专利]含有离子对-微贮库的透皮治疗系统有效
| 申请号： | 200780037725.6 | 申请日： | 2007-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN101522178A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | T·希勒;M·霍斯特曼;W·穆勒 | 申请（专利权）人： | LTS勒曼治疗系统股份公司 |
| 主分类号： | A61K9/70 | 分类号： | A61K9/70;A61K47/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 殷 骏 |
| 地址： | 德国安*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及透皮治疗系统，其包含活性物质不能渗透的背衬层，和可剥离的、活性物质不能渗透的保护层和至少一个由聚硅氧烷和/或者聚硅氧烷衍生物构成的、含有微贮库的基质层，所述微贮库含有至少一种分别由药理学活性的活性物质和添加剂构成的电子对，并且活性物质为亲核性和添加剂为亲电性，或者活性物质为亲电性和添加剂为亲核性。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 离子对 微贮库 治疗 系统 | ||
【主权项】：
1. 透皮治疗系统，其包含活性物质不能渗透的背衬层，至少一个由聚硅氧烷和/或聚硅氧烷衍生物构成的、含有微贮库的基质层，和可剥离的活性物质不能渗透的保护层，其特征在于，基质内的微贮库形成固体、半固体或液体内相，该内相由至少一种分别来自在药理学上有活性的活性物质和添加剂的离子对组成，其中所述添加剂以至少等摩尔的量存在，并且所述活性物质为阳离子形成剂和所述添加剂为阴离子形成剂，或者所述活性物质为阴离子形成剂和所述添加剂为阳离子形成剂。
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