[发明专利]用于基片化学镀的设备和方法

摘要

一种体结构具有形成该体结构内腔体的内部区域形状。该体结构内的腔体设计为容纳流体。一种卡盘包括能够夹持基片的顶部，以及具有与该体结构的内部区域形状互补的形状的体部分。该卡盘体部分的互补形状至少部分与形成该体结构腔体的该内部区域形状对齐。该卡盘体部分设计为移进该体结构的腔体并排开该腔体内的流体，以便将该流体转移到该卡盘的顶部。该卡盘的体部分还设计为移出该体结构的腔体，以便将该流体从该卡盘的顶部移除。

主权项

1.一种用以执行基片化学镀的系统，包括：体结构，具有在该体结构内形成腔体的内部区域形状，该腔体设计为容纳流体；以及卡盘，具有能够夹持该基片的顶部，该卡盘具有体部分，其具有与该内部区域形状互补的形状，该体部分设计为移进该腔体并且排开该流体，以便将该流体转移到该卡盘顶部，该体部分设计为移出该腔体以将该流体从该卡盘顶部移除，其中该卡盘的体部分的互补形状至少部分与该体结构的内部区域形状对齐。