[发明专利]含有Si-O的氢化碳膜、具有该氢化碳膜的光学装置以及制备含有Si-O的氢化碳膜和光学装置的方法无效
| 申请号： | 200780041911.7 | 申请日： | 2007-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101535177A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 赤羽良启;今井贵浩;松浦尚;片山哲也;后利彦 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02;B32B9/00;G02B3/00;G02B5/18;G02B5/30;G02B5/32;G03H1/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁业平;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种作为光学膜的含有Si-O的氢化碳膜，其对于波长为520nm的光的折射率为至少1.48到至多1.85，并且对于波长为248nm的光的消光系数小于0.15，其中，通过使用能量束照射，折射率和消光系数都降低。通过使用这种含有Si-O的氢化碳膜，可以提供包括该含有Si-O的氢化碳膜的各种光学元件和光学装置。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 si 氢化 具有 光学 装置 以及 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种含有Si-O的氢化碳膜，其对于波长为520nm的光的折射率为至少1.48到至多1.85，并且对于波长为248nm的光的消光系数小于0.15，其中通过用能量束照射，所述折射率和所述消光系数都降低。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友电气工业株式会社，未经住友电气工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780041911.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：制备生物柴油的方法
- 下一篇：具有自动返回功能的埋置式铰链设备
