[发明专利]低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料有效
| 申请号： | 200780041914.0 | 申请日： | 2007-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN101535430A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 谷好浩;元山贤一 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/08 | 分类号： | C09D183/08;B05D7/24;C09D5/00;C09D7/12;C09D183/02;G02B1/11 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 范 征 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供可在较低温度下固化而形成高硬度的耐擦伤性良好的具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布及其制造方法，以及使用该被膜的防反射材料。低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，含有含氟有机基团与硅原子结合的聚硅氧烷(A)和碳数3～12的含氟胺化合物(B)，将它们溶于有机溶剂(C)而形成。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 形成 用涂布液 及其 制造 方法 以及 反射 材料 | ||
【主权项】：
1. 低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，包含具备结合有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷(A)和碳数3～12的含氟胺化合物(B)，将它们溶于有机溶剂(C)而形成。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
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C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
