[发明专利]一种密封结构以及制造这种密封结构的方法无效
| 申请号： | 200780042891.5 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101535171A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 约翰内斯·东科尔斯;埃尔文·海曾;菲利普·默尼耶-贝亚尔;格哈德·科普斯 | 申请（专利权）人： | NXP股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈 源;张天舒 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制造结构(1100)的方法，所述方法包括在衬底(101)上形成罩元件(401)，去除罩元件(401)下的衬底(101)的材料(103)，从而在罩元件(401)和衬底(101)之间形成间隙(802)，并重新布置罩元件(401)和/或衬底(101)的材料，从而合并罩元件(401)和衬底(101)，以桥接间隙(802)。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 密封 结构 以及 制造 这种 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种制造结构(1100)的方法，所述方法包括：在衬底(101)上形成罩元件(401)；去除所述衬底(101)和所述罩元件(401)之间的邻接区域中的材料(103)，从而形成所述罩元件(401)和所述衬底(101)之间的间隙(802)；重新布置所述罩元件(401)和/或所述衬底(101)的材料，从而合并所述罩元件(401)和所述衬底(101)，以桥接所述间隙(802)。
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