[发明专利]等离子处理装置有效
| 申请号： | 200780044171.2 | 申请日： | 2007-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101543141A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 仲上慎二;中野博彦 | 申请（专利权）人： | 莎姆克株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/205;H01L21/3065;C23C16/507 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种等离子处理装置，在被处理物的上方具备感应线圈，该感应线圈由具有相同形状的n个线圈要素构成，n为2以上，n个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称，而且各线圈要素被电性地并联连接。各线圈要素，在向被处理物的投影面中的相同部位的下侧具有接地端、上侧具有给电端地围绕着轴旋转。各线圈要素具有：下面部，该下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状，该弧的中心角为360°/n；和给电部，该给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状，与下面部相比设置在上侧，与该下面部电性连接。另外，也可以使不同的线圈要素的给电端处在接地端上来组合线圈要素。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
1、一种等离子处理装置，其特征在于：在被处理物的上方具备感应线圈，该感应线圈由具有相同形状的n个线圈要素构成，n为2以上，所述n个线圈要素以被处理物的表面的法线为轴配置成旋转对称，而且各线圈要素被电性地并联连接；所述感应线圈的各线圈要素，在向被处理物的投影面中的相同部位的下侧具有接地端、上侧具有给电端地围绕着所述轴旋转，所述感应线圈的各线圈要素，具有：下面部，该下面部是一端具备接地端且具有规定的宽度的弧状，该弧的中心角为360°/n；和给电部，该给电部是一端具备给电端且具有规定的宽度的弧状，与所述下面部相比设置在上侧，与该下面部电性连接。
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